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작성자 최고관리자
댓글 0건 조회 313회 작성일 19-10-23 15:15

본문

Wet station & Single Scrubber
Cleaning : 
Wafer 습식세정으로 유기물 및 무기물, 오염물질, Particle 제거 공정으로
SC1/SC2, 초순수이온수지(D.i Water) 세정효율을 극대화.
( Silicon, Glass, Quart, SiC, Shapphire, Ceramic etc )

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